性能指标和基本配置 |
主要特点 | ● 结构紧凑、小型化的桌上型仪器 ● 用各种气体清洗和去除晶片上纳米级有机污染物。 ● 在制膜实验之前预先清洁镀膜基底的优秀工具。清洗后镀膜的质量可以更好。 ● 铰链式门,方便装样 ● 石英腔的直径是3英寸,在里面可以放入一个石英舟,清洗一个2英寸的基片。 ● 清洗腔里面的石英管可以拆卸,方便清洗和更换 ● 使用可调射频电源,可以设置功率为低、中、高级别;低成本、操作安全。 |
主要参数 | ● 低功率设定:直流680V,10mA,6.8W; ● 中功率设定:直流700V,15mA,10.5W; ● 高功率设定:直流720V,25mA,18W; ● 射频源输出频率:13.56MHz; ● 等离子直流电源: ● 输入电压:220V,50Hz |
等离子腔室 | ● 直径75mmx长200mm的石英墙体,前盖可以开启。 ● 高纯度石英腔体,使用寿命比玻璃长。 |
真空计 | 设备标配一个数显电阻真空机用于实时监测清洗仓内的真空度。 |
可选配件 | ● 您可以订购额外的石英腔体,用于备用。 ● 如果需要一个通入两种气体的工艺解决方案,PDC-36G等离子清洗机可以与2路混气系统组合(点击下面张图片了解详情) ● 您可以订购石英晶片载体来清洁2英寸晶片 |
真空泵和阀 | 此设备不包含真空泵。 |
工作气体 | ● 多种气体可以用于等离子清洗,例如氮气、氩气、空气、混合气体,主要取决于处理何种材料。 ● 可以使用<4%的H2混合惰性气体 ● 警示:不能使用可燃性及腐蚀性气体。 |
等离子清洗及刻蚀的方法 | |
外形尺寸 | 353mm(L)x380mm(W)x225mm (H) |
净重 | (不含泵)8kg |
工作原理 | 等离子清洗机工作原理 |
质量认证 | CE认证 |
保修期 | 一年保修,终身技术支持。 特别提示: 1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 点击查看售后服务承诺书。 |