先锋科技（香港）股份有限公司
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Kaleo MultiWave 光学元件面型测量仪是一台多波长工作的光学元件面形测试系统，用于替代昂贵、低效、操作复杂的干涉仪，测量光学元件的表面面形、透过波差等参数。
Kaleo MultiWave 是一台多波长工作的光学元件面形测试系统，用于替代昂贵、低效、操作复杂的干涉仪，测量光学元件的表面面形、透过波差等参数。
Kaleo MultiWave 通过单次测量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面质量参数尊崇ISO 10110标准。表面不规则，粗糙度以及波纹亦可测试。
Kaleo MultiWave的多波长测试功能可以在光学元件设计的工作波长进行测试，从而对光学元件基底、镀膜获得完整的评价。仪器具备和传统干涉仪同等的精度，同时具备更大的动态范围以测试复杂面形的光学元件。测试以双程模式工作，兼容透射与反射测量。
多波长干涉仪：
同一机台，多个波长
标配：625nm - 780nm - 1050nm
可选：UV - 400nm - 1100nm - 短波红外
高动态范围：
> 20um PV
高度畸变波前测试
高精度：
精度与干涉仪同等
高重复度，低噪声
高性价比的干涉仪解决方案
规范：
遵从ISO 5725 标准
兼容MetroPro 格式
兼容 ISO 10110 格式
用途：
表面面形测试
镀膜（AR，介质膜，金属膜测试......）
窗片，干涉滤光片测试
透镜，非平面镜测试
应用：
光学元件研发制造
滤光片及窗片制造
空间及防务
汽车工业
激光器及其应用
光学元件面型测量仪KALEO MultiWave技术指标：
光路结构 | 双通路 |
标准配置波长 | 625, 780, 1050nm |
可选波长 | 400 - 1100nm，UV, IR |
有效口径 | 130mm |
可重复性 (ISO 5725) | < 5nm rms |
可再造性 (ISO 5725) | <7nm rms |
动态范围 (失焦), RWE | 10um PV |
动态范围 (失焦), TWE | 200nm rms |
精度 (RWE) | <80nm rms |
精度 (TWE) | <20nm rms |
光学元件面型测量仪KALEO MultiWave测试实例：
与Fizeau干涉仪测试结果的比较
NBP-780滤光片测试。二者测量RWE的偏差小于40nm P-V
非球面镜3-D面形
单次测量，无需空白透镜。可通过扣除理想曲面得知面形残余误差，从而获知非球面镜的加工质量。
产线设备监控
通过对塑料、树脂模压光学元件的直接测试，实时获知加工效果，对模具状态、工件调整精度等作出实时评价。
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